รายละเอียดสินค้า
เครื่องเคลือบต้านทานเป็นระบบเคลือบขนาดเล็ก-ถึง-ขนาดกลางที่พัฒนาและปรับแต่งโดยบริษัทของเราสำหรับลูกค้า โดยมีการออกแบบโมดูลาร์ที่มีความแม่นยำสูง- ประกอบด้วยหน่วยคลี่คลาย หน่วยเคลือบจุลภาค หน่วยเคลือบแม่พิมพ์สล็อต- หน่วยบ่มด้วยรังสียูวี หน่วยเคลือบและดึง หน่วยพัฒนาและทำความสะอาด หน่วยแกะสลักและทำความสะอาด และหน่วยขดลวด หลังจากการคลี่คลายและแก้ไขขอบ วัสดุจะเข้าสู่หน่วยการเคลือบ ซึ่งสามารถเปลี่ยนการเคลือบใบมีดจุลภาคและการเคลือบแม่พิมพ์สล็อต-ได้ตามต้องการ จากนั้นจะบ่มด้วยเครื่องบ่มด้วยรังสียูวี ตามด้วยการพัฒนาการทำความสะอาดและการกัด และสุดท้ายจะเกิดรอยขึ้นหลังจากการดึงและการแก้ไขขอบ เหมาะสำหรับพารามิเตอร์กระบวนการนำร่องและการผลิตเป็นชุด-จำนวนน้อย
กระบวนการเคลือบ
การเคลือบใบมีดจุลภาค
การควบคุมความแม่นยำสูง-: เบลดลูกน้ำเป็นลูกกลิ้งสูบจ่ายที่มีความแม่นยำซึ่งควบคุมความหนาของการเคลือบอย่างแม่นยำผ่านช่องว่างระหว่างเบลดและม้วนสำรอง ทำให้เหมาะสำหรับของเหลวที่มีความหนืดสูง-
ความสามารถในการเคลือบหนา: เมื่อเปรียบเทียบกับใบมีดธรรมดา ใบมีดลูกน้ำจะเหมาะกว่าสำหรับงานเคลือบที่หนากว่า
ความเรียบดีเยี่ยม: ด้วยโครงสร้างที่แข็งแกร่งและการเคลื่อนที่แบบหมุนของใบมีด จึงสามารถขจัดความไม่สม่ำเสมอบนพื้นผิวของพื้นผิวได้อย่างมีประสิทธิภาพ ทำให้มั่นใจได้ว่าการเคลือบจะสม่ำเสมอ
สล็อต-การเคลือบดาย
การควบคุมความหนาของฟิล์มที่มีความแม่นยำสูง-: หัวดายช่อง-ใช้การป้อนแบบมิเตอร์แบบอัดขึ้นรูป- ซึ่งควบคุมความหนาของชั้นเคลือบแบบแห้งและเปียกได้อย่างแม่นยำและแม่นยำ โดยมีความสม่ำเสมอของความหนาของฟิล์มที่ดีเยี่ยม ปรับให้เข้ากับการเคลือบตั้งแต่-บางพิเศษไปจนถึงความหนาปานกลาง- และไปจนถึงของเหลวที่มีความหนืดต่ำ- ปานกลาง- และสูง-
การเคลือบต่อเนื่องความเร็วสูง-: เหมาะสำหรับการผลิต-การม้วนด้วยความเร็วสูง-ถึง-อย่างต่อเนื่องที่มีประสิทธิภาพสูง ซึ่งเหมาะกับการผลิตจำนวนมากทางอุตสาหกรรม- และมีหน้าต่างความเร็วในการเคลือบที่กว้าง
ความสม่ำเสมอในการเคลือบที่ดีเยี่ยม: ความหนาของฟิล์มมีความผันผวนเล็กน้อยทั้งในด้านแนวขวางและทิศทางของเครื่องจักร โดยไม่มีเส้นหรือรอยขีดข่วนทั่วไปในการเคลือบใบมีด ทำให้ได้ผลผลิตผลิตภัณฑ์สำเร็จรูป-สูง
การใช้สารละลายสูง: การให้อาหารแบบห้องปิด-ช่วยลดการสูญเสียของสารละลายและจำกัดการระเหยและการปนเปื้อน ทำให้เหมาะสำหรับสารละลาย-ที่ประกอบด้วยตัวทำละลาย ออกซิไดซ์ได้ง่าย และ-สารละลายที่มีมูลค่าสูง
ความสามารถในการปรับตัวของพื้นผิวได้กว้าง: สามารถเคลือบบนพื้นผิวที่มีความยืดหยุ่นต่างๆ เช่น ฟิล์ม ฟอยล์ทองแดง อลูมิเนียมฟอยล์ และผ้าไม่ทอ- โดยมีความทนทานต่อความเรียบของพื้นผิวของวัสดุได้ดียิ่งขึ้น
พารามิเตอร์หลัก
|
พาวเวอร์ซัพพลาย |
ไฟ AC สาม- เฟส 380 V ±10%, 50 Hz, 22 kW |
|
แอร์ซัพพลาย |
อากาศอัด 0.5-0.8 MPa |
|
วิธีการเคลือบ |
ใบมีดจุลภาค + สล็อต-การเคลือบดาย |
|
ความกว้างของลูกกลิ้งนำ |
500 มม |
|
ความกว้างของการเคลือบผิว |
0-400 มม |
|
ความเร็วทางกล |
7 ม./นาที |
|
ความเร็วในการเคลือบ |
สูงสุด. 5 ม./นาที |
|
ความแม่นยำในการเคลือบ |
0.005 มม |
|
อุณหภูมิการบ่ม |
0-100 องศา |
|
น้ำหนัก |
ประมาณ . 2500 กก. (ขึ้นอยู่กับน้ำหนักจริง) |
|
ขนาดเครื่อง |
ยาว 6000 มม. × กว้าง 1050 มม. × สูง 1850 มม. (ขึ้นอยู่กับขนาดจริง) |
สินค้าคุณสมบัติ
การสลับโหมดการเคลือบแบบคู่: เครื่องเคลือบต้านทานนี้ผสานรวมหน่วยใบมีดจุลภาคและหน่วยการเคลือบแบบสล็อต-อย่างสร้างสรรค์ ซึ่งสามารถสลับได้ตามต้องการตามความต้องการของกระบวนการ ซึ่งช่วยปรับปรุงความอเนกประสงค์ของอุปกรณ์ได้อย่างมาก
บูรณาการ-กระบวนการถ่ายภาพหินด้วยแสงแบบเต็มกระบวนการ: เครื่องเคลือบต้านทานไม่เพียงแต่ครอบคลุมการเคลือบเท่านั้น แต่ยังครอบคลุมถึงการบ่มด้วยรังสียูวี การพัฒนาการทำความสะอาด และการกัดด้วยหน่วยทำความสะอาด ทำให้เกิด-ระบบอัตโนมัติในสายการผลิตเดียวตั้งแต่การเคลือบต้านทานไปจนถึงการประมวลผลรูปแบบ
การควบคุมความแม่นยำระดับไมครอน-: เครื่องเคลือบต้านทานนี้ใช้การออกแบบโมดูลาร์ที่มีความแม่นยำสูง- โดยมีการควบคุมความแม่นยำในการเคลือบอย่างเสถียรที่ 0.005 มม. ทำให้มั่นใจได้ถึงความสม่ำเสมอและความสม่ำเสมอของชั้นต้านทาน
ระบบการบ่มด้วยรังสียูวีที่มีประสิทธิภาพ: เครื่องเคลือบสารต้านทานนี้มี-หน่วยการบ่มด้วยรังสียูวีในตัวที่มีช่วงการควบคุมอุณหภูมิ 0-100 องศา ซึ่งทำให้ปฏิกิริยาการเปิดรับแสงและการบ่มของสารต้านทานเสร็จสิ้นอย่างรวดเร็ว
การออกแบบมาตราส่วนนำร่อง-ขนาดกะทัดรัด: เครื่องเคลือบต้านทานมีความยาวโดยรวมเพียง 6000 มม. หนักประมาณ 2500 กก. และใช้พื้นที่ขนาดเล็ก ทำให้เหมาะสำหรับ-การผลิตทดลองเป็นชุดขนาดเล็กในห้องปฏิบัติการหรือศูนย์ R&D
การปรับความกว้างที่ยืดหยุ่น: เครื่องเคลือบต้านทานนี้มีความกว้างของลูกกลิ้งนำทาง 500 มม. และความกว้างของการเคลือบที่มีประสิทธิภาพ 0-400 มม. ตอบสนองความต้องการด้านการวิจัยและพัฒนาของพื้นผิวในขนาดต่างๆ ได้อย่างยืดหยุ่น
การใช้งานและอุตสาหกรรม
อุตสาหกรรมจอแบน (FPD) อุตสาหกรรมแผงวงจร PCB/FPC อุตสาหกรรมการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ ระบบไมโคร-ระบบเครื่องกลไฟฟ้า (MEMS) อุตสาหกรรมส่วนประกอบด้านแสง และสถาบันวิจัยและมหาวิทยาลัย
บริการปรับแต่ง
ในฐานะผู้นำด้านเครื่องเคลือบแบบกำหนดเอง เราสนับสนุนการปรับแต่งส่วนประกอบทุกชิ้น รวมถึงหน่วยคลายตัว หน่วยเคลือบส่วนหัว หน่วยบ่ม หน่วยขดลวด หน่วยส่งกำลังและเฟรม และหน่วยควบคุมและตรวจสอบไฟฟ้า
คำถามที่พบบ่อย
ถาม: วิธีการเคลือบของเครื่องเคลือบต้านทานนี้มีความพิเศษอย่างไร?
ตอบ: มีทั้งชุดใบมีดจุลภาคและหน่วยเคลือบแม่พิมพ์แบบสล็อต- ซึ่งสามารถสลับเปลี่ยนได้ตามต้องการตามความต้องการของกระบวนการ
ถาม: ความกว้างของการเคลือบที่มีประสิทธิภาพสูงสุดของเครื่องคือเท่าใด?
A: ความกว้างของลูกกลิ้งนำคือ 500 มม. และความกว้างของการเคลือบที่มีประสิทธิภาพคือ 0-400 มม.
ถาม: ใช้วิธีบ่มแบบใด และช่วงอุณหภูมิเท่าไร?
ตอบ: ใช้หน่วยบ่ม UV โดยมีช่วงควบคุมอุณหภูมิ 0-100 องศา
ถาม: นอกจากการเคลือบและการบ่มแล้ว เครื่องจักรยังมีฟังก์ชันหลังการประมวลผล-อะไรบ้าง
ตอบ: นอกจากนี้ยังรวมการพัฒนาหน่วยทำความสะอาดและการแกะสลักเข้าด้วยกัน เพื่อให้สามารถประมวลผลรูปแบบได้โดยตรง
ถาม: ความเร็วในการทำงานเชิงกลของเครื่องคือเท่าไร?
ตอบ: ความเร็วเชิงกลคือ 7 ม./นาที และความเร็วการเคลือบสูงสุดคือ 5 ม./นาที
ภาพรายละเอียดสินค้า


ป้ายกำกับยอดนิยม: ต้านทานการเคลือบ - โดยธรรมชาติ, ประเทศจีน ต่อต้านการเคลือบ - ผู้ผลิตโดยธรรมชาติ, โรงงาน, เครื่องเคลือบแบบเรียบ, เครื่องเคลือบแผ่นเรียบสำหรับห้องปฏิบัติการ, เครื่องเคลือบแบบม้วนต่อม้วนสำหรับห้องปฏิบัติการ, เครื่องเคลือบห้องปฏิบัติการ, เครื่องเคลือบผิวสำหรับห้องปฏิบัติการ, อุปกรณ์ห้องปฏิบัติการ


