ต้านทานการเคลือบ - โดยธรรมชาติ

ต้านทานการเคลือบ - โดยธรรมชาติ

การเคลือบด้วยจุลภาคและสล็อต-การเคลือบแม่พิมพ์ ความเสถียรความเร็วสูง- การผลิตที่แม่นยำ ความแม่นยำในการเคลือบ: 0.005 มม. ความเร็วในการเคลือบ: สูงสุด. 5 ม./นาที
ส่งคำถาม
คำอธิบาย

รายละเอียดสินค้า

 

เครื่องเคลือบต้านทานเป็นระบบเคลือบขนาดเล็ก-ถึง-ขนาดกลางที่พัฒนาและปรับแต่งโดยบริษัทของเราสำหรับลูกค้า โดยมีการออกแบบโมดูลาร์ที่มีความแม่นยำสูง- ประกอบด้วยหน่วยคลี่คลาย หน่วยเคลือบจุลภาค หน่วยเคลือบแม่พิมพ์สล็อต- หน่วยบ่มด้วยรังสียูวี หน่วยเคลือบและดึง หน่วยพัฒนาและทำความสะอาด หน่วยแกะสลักและทำความสะอาด และหน่วยขดลวด หลังจากการคลี่คลายและแก้ไขขอบ วัสดุจะเข้าสู่หน่วยการเคลือบ ซึ่งสามารถเปลี่ยนการเคลือบใบมีดจุลภาคและการเคลือบแม่พิมพ์สล็อต-ได้ตามต้องการ จากนั้นจะบ่มด้วยเครื่องบ่มด้วยรังสียูวี ตามด้วยการพัฒนาการทำความสะอาดและการกัด และสุดท้ายจะเกิดรอยขึ้นหลังจากการดึงและการแก้ไขขอบ เหมาะสำหรับพารามิเตอร์กระบวนการนำร่องและการผลิตเป็นชุด-จำนวนน้อย

 

กระบวนการเคลือบ

 

การเคลือบใบมีดจุลภาค

การควบคุมความแม่นยำสูง-: เบลดลูกน้ำเป็นลูกกลิ้งสูบจ่ายที่มีความแม่นยำซึ่งควบคุมความหนาของการเคลือบอย่างแม่นยำผ่านช่องว่างระหว่างเบลดและม้วนสำรอง ทำให้เหมาะสำหรับของเหลวที่มีความหนืดสูง-

ความสามารถในการเคลือบหนา: เมื่อเปรียบเทียบกับใบมีดธรรมดา ใบมีดลูกน้ำจะเหมาะกว่าสำหรับงานเคลือบที่หนากว่า

ความเรียบดีเยี่ยม: ด้วยโครงสร้างที่แข็งแกร่งและการเคลื่อนที่แบบหมุนของใบมีด จึงสามารถขจัดความไม่สม่ำเสมอบนพื้นผิวของพื้นผิวได้อย่างมีประสิทธิภาพ ทำให้มั่นใจได้ว่าการเคลือบจะสม่ำเสมอ

สล็อต-การเคลือบดาย

การควบคุมความหนาของฟิล์มที่มีความแม่นยำสูง-: หัวดายช่อง-ใช้การป้อนแบบมิเตอร์แบบอัดขึ้นรูป- ซึ่งควบคุมความหนาของชั้นเคลือบแบบแห้งและเปียกได้อย่างแม่นยำและแม่นยำ โดยมีความสม่ำเสมอของความหนาของฟิล์มที่ดีเยี่ยม ปรับให้เข้ากับการเคลือบตั้งแต่-บางพิเศษไปจนถึงความหนาปานกลาง- และไปจนถึงของเหลวที่มีความหนืดต่ำ- ปานกลาง- และสูง-

การเคลือบต่อเนื่องความเร็วสูง-: เหมาะสำหรับการผลิต-การม้วนด้วยความเร็วสูง-ถึง-อย่างต่อเนื่องที่มีประสิทธิภาพสูง ซึ่งเหมาะกับการผลิตจำนวนมากทางอุตสาหกรรม- และมีหน้าต่างความเร็วในการเคลือบที่กว้าง

ความสม่ำเสมอในการเคลือบที่ดีเยี่ยม: ความหนาของฟิล์มมีความผันผวนเล็กน้อยทั้งในด้านแนวขวางและทิศทางของเครื่องจักร โดยไม่มีเส้นหรือรอยขีดข่วนทั่วไปในการเคลือบใบมีด ทำให้ได้ผลผลิตผลิตภัณฑ์สำเร็จรูป-สูง

การใช้สารละลายสูง: การให้อาหารแบบห้องปิด-ช่วยลดการสูญเสียของสารละลายและจำกัดการระเหยและการปนเปื้อน ทำให้เหมาะสำหรับสารละลาย-ที่ประกอบด้วยตัวทำละลาย ออกซิไดซ์ได้ง่าย และ-สารละลายที่มีมูลค่าสูง

ความสามารถในการปรับตัวของพื้นผิวได้กว้าง: สามารถเคลือบบนพื้นผิวที่มีความยืดหยุ่นต่างๆ เช่น ฟิล์ม ฟอยล์ทองแดง อลูมิเนียมฟอยล์ และผ้าไม่ทอ- โดยมีความทนทานต่อความเรียบของพื้นผิวของวัสดุได้ดียิ่งขึ้น

 

พารามิเตอร์หลัก

 

พาวเวอร์ซัพพลาย

ไฟ AC สาม- เฟส 380 V ±10%, 50 Hz, 22 kW

แอร์ซัพพลาย

อากาศอัด 0.5-0.8 MPa

วิธีการเคลือบ

ใบมีดจุลภาค + สล็อต-การเคลือบดาย

ความกว้างของลูกกลิ้งนำ

500 มม

ความกว้างของการเคลือบผิว

0-400 มม

ความเร็วทางกล

7 ม./นาที

ความเร็วในการเคลือบ

สูงสุด. 5 ม./นาที

ความแม่นยำในการเคลือบ

0.005 มม

อุณหภูมิการบ่ม

0-100 องศา

น้ำหนัก

ประมาณ . 2500 กก. (ขึ้นอยู่กับน้ำหนักจริง)

ขนาดเครื่อง

ยาว 6000 มม. × กว้าง 1050 มม. × สูง 1850 มม. (ขึ้นอยู่กับขนาดจริง)

 

สินค้าคุณสมบัติ

 

การสลับโหมดการเคลือบแบบคู่: เครื่องเคลือบต้านทานนี้ผสานรวมหน่วยใบมีดจุลภาคและหน่วยการเคลือบแบบสล็อต-อย่างสร้างสรรค์ ซึ่งสามารถสลับได้ตามต้องการตามความต้องการของกระบวนการ ซึ่งช่วยปรับปรุงความอเนกประสงค์ของอุปกรณ์ได้อย่างมาก

บูรณาการ-กระบวนการถ่ายภาพหินด้วยแสงแบบเต็มกระบวนการ: เครื่องเคลือบต้านทานไม่เพียงแต่ครอบคลุมการเคลือบเท่านั้น แต่ยังครอบคลุมถึงการบ่มด้วยรังสียูวี การพัฒนาการทำความสะอาด และการกัดด้วยหน่วยทำความสะอาด ทำให้เกิด-ระบบอัตโนมัติในสายการผลิตเดียวตั้งแต่การเคลือบต้านทานไปจนถึงการประมวลผลรูปแบบ

การควบคุมความแม่นยำระดับไมครอน-: เครื่องเคลือบต้านทานนี้ใช้การออกแบบโมดูลาร์ที่มีความแม่นยำสูง- โดยมีการควบคุมความแม่นยำในการเคลือบอย่างเสถียรที่ 0.005 มม. ทำให้มั่นใจได้ถึงความสม่ำเสมอและความสม่ำเสมอของชั้นต้านทาน

ระบบการบ่มด้วยรังสียูวีที่มีประสิทธิภาพ: เครื่องเคลือบสารต้านทานนี้มี-หน่วยการบ่มด้วยรังสียูวีในตัวที่มีช่วงการควบคุมอุณหภูมิ 0-100 องศา ซึ่งทำให้ปฏิกิริยาการเปิดรับแสงและการบ่มของสารต้านทานเสร็จสิ้นอย่างรวดเร็ว

การออกแบบมาตราส่วนนำร่อง-ขนาดกะทัดรัด: เครื่องเคลือบต้านทานมีความยาวโดยรวมเพียง 6000 มม. หนักประมาณ 2500 กก. และใช้พื้นที่ขนาดเล็ก ทำให้เหมาะสำหรับ-การผลิตทดลองเป็นชุดขนาดเล็กในห้องปฏิบัติการหรือศูนย์ R&D

การปรับความกว้างที่ยืดหยุ่น: เครื่องเคลือบต้านทานนี้มีความกว้างของลูกกลิ้งนำทาง 500 มม. และความกว้างของการเคลือบที่มีประสิทธิภาพ 0-400 มม. ตอบสนองความต้องการด้านการวิจัยและพัฒนาของพื้นผิวในขนาดต่างๆ ได้อย่างยืดหยุ่น

 

การใช้งานและอุตสาหกรรม

 

อุตสาหกรรมจอแบน (FPD) อุตสาหกรรมแผงวงจร PCB/FPC อุตสาหกรรมการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ ระบบไมโคร-ระบบเครื่องกลไฟฟ้า (MEMS) อุตสาหกรรมส่วนประกอบด้านแสง และสถาบันวิจัยและมหาวิทยาลัย

 

บริการปรับแต่ง

 

ในฐานะผู้นำด้านเครื่องเคลือบแบบกำหนดเอง เราสนับสนุนการปรับแต่งส่วนประกอบทุกชิ้น รวมถึงหน่วยคลายตัว หน่วยเคลือบส่วนหัว หน่วยบ่ม หน่วยขดลวด หน่วยส่งกำลังและเฟรม และหน่วยควบคุมและตรวจสอบไฟฟ้า

 

คำถามที่พบบ่อย

 

ถาม: วิธีการเคลือบของเครื่องเคลือบต้านทานนี้มีความพิเศษอย่างไร?

ตอบ: มีทั้งชุดใบมีดจุลภาคและหน่วยเคลือบแม่พิมพ์แบบสล็อต- ซึ่งสามารถสลับเปลี่ยนได้ตามต้องการตามความต้องการของกระบวนการ

ถาม: ความกว้างของการเคลือบที่มีประสิทธิภาพสูงสุดของเครื่องคือเท่าใด?

A: ความกว้างของลูกกลิ้งนำคือ 500 มม. และความกว้างของการเคลือบที่มีประสิทธิภาพคือ 0-400 มม.

ถาม: ใช้วิธีบ่มแบบใด และช่วงอุณหภูมิเท่าไร?

ตอบ: ใช้หน่วยบ่ม UV โดยมีช่วงควบคุมอุณหภูมิ 0-100 องศา

ถาม: นอกจากการเคลือบและการบ่มแล้ว เครื่องจักรยังมีฟังก์ชันหลังการประมวลผล-อะไรบ้าง

ตอบ: นอกจากนี้ยังรวมการพัฒนาหน่วยทำความสะอาดและการแกะสลักเข้าด้วยกัน เพื่อให้สามารถประมวลผลรูปแบบได้โดยตรง

ถาม: ความเร็วในการทำงานเชิงกลของเครื่องคือเท่าไร?

ตอบ: ความเร็วเชิงกลคือ 7 ม./นาที และความเร็วการเคลือบสูงสุดคือ 5 ม./นาที

 

ภาพรายละเอียดสินค้า

 

product-831-434

product-830-702

 

ป้ายกำกับยอดนิยม: ต้านทานการเคลือบ - โดยธรรมชาติ, ประเทศจีน ต่อต้านการเคลือบ - ผู้ผลิตโดยธรรมชาติ, โรงงาน, เครื่องเคลือบแบบเรียบ, เครื่องเคลือบแผ่นเรียบสำหรับห้องปฏิบัติการ, เครื่องเคลือบแบบม้วนต่อม้วนสำหรับห้องปฏิบัติการ, เครื่องเคลือบห้องปฏิบัติการ, เครื่องเคลือบผิวสำหรับห้องปฏิบัติการ, อุปกรณ์ห้องปฏิบัติการ

ส่งคำถาม
ส่งคำถาม